X射線熒光鍍層測(cè)厚儀（AL-NP-7010）

X射線熒光鍍層測(cè)厚儀是采用能量色散X熒光分析技術(shù)，同時(shí)測(cè)量多種元素的分析儀器，根據(jù)用戶應(yīng)用要求可配置為從Na到U的任意多種元素的分析測(cè)定。另外配以功能齊全的測(cè)試軟件、友好的操作界面來(lái)滿足金屬鍍層及元素含量測(cè)定的需要，人性化的設(shè)計(jì)，使測(cè)試工作更加輕松完成。此儀器具有測(cè)量元素含量與鍍層厚度檢測(cè)的兩種功能。

廣泛應(yīng)用于金屬鍍層的厚度測(cè)量、電鍍液和鍍層含量的測(cè)定電鍍、五金、PCB、衛(wèi)浴、電子電器、貴重金屬等行業(yè)。

整機(jī)性能：

●FAST SDD探測(cè)器

探測(cè)器的分辨率是評(píng)價(jià)能量色散X熒光光譜儀

性能的主要指標(biāo)之一

分 辨 率 < 122eV (分辨率越低則靈敏度越高)

計(jì) 數(shù) 率 > 1,000,000CPS

鈹窗厚度 = 0.005mm

探測(cè)功率 < 1.2W

●X射線管 靶材 銠（Rh）或鎢（W）

管電壓 5-50KV

管電流 1-1000uA

●多道脈沖幅度分析器（俗稱譜儀能量刻度）

通道數(shù)：2048道

●電源控制器

系統(tǒng)電源控制+5 VDC at 250 mA (1.2 W)

恒定制冷控制 400 VDC

●低功率小型側(cè)窗X射線發(fā)生器（俗稱X光管）

經(jīng)過(guò)內(nèi)部嵌鉛特殊處理的X光管進(jìn)行全范圍屏蔽,只留側(cè)窗X射線出口區(qū)。罐絕緣油用于高壓絕緣和冷卻，0.005英寸鈹窗標(biāo)準(zhǔn)窗口，額定功耗為50瓦、額定電壓為50千伏。設(shè)計(jì)使用壽命>15000小時(shí)。

●高壓發(fā)生器

輸入：85～265Vac,47～63Hz,功率因數(shù)校正。

1kV～5kV的型號(hào)符合UL85～250Vac輸入標(biāo)準(zhǔn)

電壓變動(dòng)率：無(wú)負(fù)載到滿負(fù)載，輸出電壓的0.01%

電流變動(dòng)率：0～額定電壓，輸出電流的0.01%

紋波：輸出電壓的0.25%峰-峰

溫度系數(shù)：電壓或電流調(diào)定，0.01%/℃

穩(wěn)定性：預(yù)熱半小時(shí)后，0.05%/8小時(shí)

●濾光片自動(dòng)轉(zhuǎn)換系統(tǒng)

濾光片自動(dòng)轉(zhuǎn)換系統(tǒng)：6種濾光片自動(dòng)選擇并自動(dòng)轉(zhuǎn)換（濾光片作用：改善激發(fā)源的譜線能譜成分，在進(jìn)行多元素分析時(shí)，用來(lái)抑制高含量組分的強(qiáng)X射線熒光，提高待測(cè)元素的測(cè)量精度）。

●安全防輻射系統(tǒng)

重新設(shè)計(jì)的低輻射X射線管經(jīng)過(guò)特殊處理（從源頭做起）

全封閉鉛板雙層防輻設(shè)計(jì)（從設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)做起）

全自動(dòng)鉛板濾光片自動(dòng)屏蔽裝置

樣品蓋意外開(kāi)啟X射線強(qiáng)制中斷裝置

延時(shí)測(cè)試與X射線警示系統(tǒng)

●強(qiáng)大的分析軟件工作站

一鍵式的操作軟件，簡(jiǎn)單易用，無(wú)需專業(yè)知識(shí)。

人性化的人機(jī)界面

各種測(cè)試參數(shù)無(wú)需操作人員設(shè)定，強(qiáng)大定制報(bào)告功能。

測(cè)試數(shù)據(jù)自動(dòng)存儲(chǔ)，具有歷史查詢功能。

最前沿的定性定量分析方法。

可同時(shí)分析幾十種元素。

元素分析快速，分析時(shí)間從30秒到900秒可調(diào)。

長(zhǎng)時(shí)間待機(jī)不用，自動(dòng)降低管壓、管流，延長(zhǎng)X光管壽命。

對(duì)X射線管進(jìn)行溫度管控，保護(hù)X射線管并延長(zhǎng)它壽命。

實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀器運(yùn)行狀態(tài)，輕易維護(hù)儀器。

防止在測(cè)試樣品時(shí)打開(kāi)樣品蓋的誤操作，軟件有警示操作提示，同時(shí)關(guān)閉高壓電源。

●樣品分析的種類(lèi)

可直接檢測(cè)固體、液體、粉末，不需要復(fù)雜的制樣過(guò)程，直接無(wú)損分析樣品。

●專業(yè)的鍍層厚度檢測(cè)

可分析單鍍層、多鍍層以及合金鍍層。

具有多種鍍層的分析方法。

分析厚度：一般0.05-50um（不同元素厚度有所不同）。